这项技术制造的设备可以检查半导体/显示器生产中使用的光掩模的形状并修复缺陷。
基于在显示激光修复领域的卓越技术基础, 我们提供光掩膜修复、光掩膜AOI、Micro LED 修复 CVD修复和喷墨修复等最佳解决方案。
这项技术制造的设备可以检查显示器制造中使用的光掩模的形状并修复缺陷。
修复8G/10G PhotoMask形状及透过率不佳的问题
Zap:(T>92%)< 0.5um精密形状加工
Binary(T:0%)薄膜质量和形状复原
Half Tone(T:30~70%)薄膜质量和形状复原
Net 技术认证(认证号:0589)
UV Light Line Scan Inspection
Transmission & Reflection mode
< 1um Resolution , 2um L&S
Particle Filtering, Pattern Matching , Sub - Pixel
这是一种制造设备的技术,该设备可以检查半导体制造中使用的光掩模的形状并修复缺陷。
6~9英寸光掩膜形状及透光度复原Repair
Zap:(T>95%)< 0.4um精密形状加工
PBinary (T: 0%) 薄膜质量和形状复原
UV Laser Scanning lnspection
200nm ResoIution Hight Speed Scan lnspection
Die to Die, DB to Die
这是一项检查 OLED 沉积工艺中使用的 FMM 形状并修复缺陷的设备制造技术。
Fine Metal Mask 形状与异物不良 Repair
Laser Ablation/Gel stick
Fine Metal Mask AOI
3um Resolution
Mask Shape, Burr, ParticIe
Option : CD Inspection 3D Inspection